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Elaboration et caractérisation physique des couches minces de TiO2 déposées par pulvérisation cathodique

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par Ihsen BEN MBAREK
Ecole Nationale d'Ingénieurs de Tunis - Mastère en Génie des Systèmes Industriels 2009
  

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2.6.1.2 Le plasma (ou bien luminescence négative)

Le plasma est un gaz électriquement neutre, mais conducteur et généré par excitation d'origine électrique, magnétique ou thermique ; il constitue le quatrième état de la matière et est formé d'un ensemble de particules libres (électrons et espèces neutres : atomes, molécules), d'ions et de photons (Fig.2.7). Cet ensemble respecte globalement la neutralité de charges. Dans cet état l'énergie apportée au gaz provoque une dissociation des atomes. Lorsque l'apport d'énergie est global, il y a équilibre thermique (températures supérieures à 10 000°C) on parle alors de plasma chaud. Lorsque l'apport d'énergie est restreint aux électrons (décharge), le milieu est hors équilibre thermique on parle alors de plasma froid. Pour produire les particules énergétiques qui pulvérisent la cible, un des moyens, est donc de créer un plasma, c'est à dire d'initier et d'entretenir une décharge électrique entre deux électrodes dans un gaz d'argon à faible pression (de quelques mTorr).

ENIT 2009 30

Chapitre 2 : Téchniques de dépôt : La pulvérisation cathodique

Les particules du plasma sont en mouvement sous l'action de sources d'énergie électrique, les électrodes (la cathode chargée négativement et l'anode chargée positivement). C'est le principe de la pulvérisation cathodique diode (Fig.2.7).

Fig. 2. 7 Principe de la pulvérisation cathodique diode

Ces particules sont généralement les ions d'argon Ar+ du plasma, accélérés dans le champ électrique de la cible, portée à une tension négative par rapport à celle du plasma. Les particules pulvérisées sont en général électriquement neutres. Elles sont diffusées dans toute l'enceinte. Un certain nombre d'entre elles sont recueillies sur un support appelé substrat, placé en face de la cible, et sur lequel elles forment une couche mince. Donc le plasma, appelé aussi la décharge luminescente, est la base de la pulvérisation cathodique.

2.6.1.3 La gaine ou obscur de Crookes

Etant donné la faible mobilité des ions par rapport aux électrons, une grande partie du potentiel électrique appliqué entre l'anode et la cathode est consommée dans l'espace obscur de Crookes ou gaine de cathode au voisinage de la cathode. L'épaisseur de celui-ci varie de 1 à 4 cm selon la pression et la densité de courant. Par conséquent, un champ électrique important règne dans cette région de telle sorte que les ions allant du plasma vers la cathode s'y trouvent fortement accélérés.

La figure 2.8 représente les phénomènes qui se produisent dans le plasma et la gaine de cathode. Les ions argon qui sont formés dans le plasma sont accélérés par le champ électrique de l'espace sombre ou gaine de cathode et vont bombarder la cible, éjectant des atomes superficiels et des électrons secondaires. Ces électrons sont accélérés à leur tour par le potentiel de la gaine et pénètrent dans le plasma où ils entrent en collision avec les atomes, les ionisant, et contribuant

ENIT 2009 31

Chapitre 2 : Téchniques de dépôt : La pulvérisation cathodique

ainsi à entretenir la décharge. Le potentiel le plus positif est appelé potentiel plasma Vp. Ce potentiel est toujours négatif.

Luminescence négative

Ar

Ar

Courbe de décharge luminescente

Ar+

Gaine de cathode

Courbe de décharge électrique

Électrons secondaires

Ar

V cathode (<0)

V

Cible

Fig. 2. 8 Décharge et zone de luminescence négative (plasma)

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