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Elaboration et caractérisation physique des couches minces de TiO2 déposées par pulvérisation cathodique

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par Ihsen BEN MBAREK
Ecole Nationale d'Ingénieurs de Tunis - Mastère en Génie des Systèmes Industriels 2009
  

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Chapitre 2 : Téchniques de dépôt : La pulvérisation cathodique

2.6.6 Croissance cristalline

L'élaboration d'une couche par pulvérisation cathodique se déroule suivant trois étapes successives. Chaque étape est préférentiellement influencée par certains paramètres de dépôt. La première considère le déplacement des atomes de la cible au substrat. Cette étape est essentiellement influencée par la pression totale dans le gaz de pulvérisation et la puissance du magnétron. Les deux étapes suivantes consistent en l'incorporation des atomes sur le substrat ou dans la couche et à leur diffusion dans la couche jusqu'à leur position d'équilibre. Ces deux étapes sont influencées par l'énergie des atomes incidents et la température du substrat. Une fois qu'une couche continue est formée, l'évolution suit son cours jusqu'à la structure finale suivant le modèle de Movchan et Demchishin (voir Fig.2.14). Ce modèle, schématisant la relation entre température de dépôt et microstructure des couches, se divise en trois zones [90].

Dans la zone I, à basse température, la mobilité des atomes déposés est réduite et la structure se forme à partir de la géométrie de surface. Une structure colonnaire composée de nanocristallites se forme à partir des nucléis créés sur des défauts. Les colonnes coniques n'ont que peu de liaisons entre elles.

Dans la zone II, lorsque la température du substrat augmente, la mobilité des particules adsorbées augmente et la morphologie structurale se transforme et correspond à la zone T : les cristallites grossissent et les grains sont de plus en plus serrés pour former des colonnes de grains (zone II).

La taille des colonnes croît avec la température et finalement si on augmente encore la température, on arrive à une recristallisation du composé (zone III).

T1 Température T2

Zone I Zone II Zone III

Métal < 0.3 TM 0.3-0.45 TM > 0.45 TM

Oxyde < 0.26 TM 0.26-0.45 TM > 0.45 TM

Fig. 2. 14 Zones Structurales (Mochvan et Demchishin)

avec TM (melting temperature) représente la température de fusion du matériau de la couche : métal ou oxyde.

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