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Elaboration et caractérisation physique des couches minces de TiO2 déposées par pulvérisation cathodique

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par Ihsen BEN MBAREK
Ecole Nationale d'Ingénieurs de Tunis - Mastère en Génie des Systèmes Industriels 2009
  

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Chapitre 1 : Matériau TiO2

Presque la moitié des atomes de la table périodique ont été incorporés dans le TiO2 [33, 34] (voir tableau 1.5). Par exemple, quand des atomes de niobium ou de tantale sont incorporés dans le TiO2, ils agissent comme donneurs d'électron [35, 36], ayant pour résultat une augmentation de la conductivité électrique. Le chrome, le manganèse, et le fer sont rapportés comme accepteurs d'électron [36, 37, 38] augmentant ou diminuant la conductivité TiO2 électrique selon le rapport de leur concentration et de la concentration de lacune d'oxygène [39].

1.3.2 Conductivité

Il est aussi montré que les atomes incorporés engendrent des défauts tels que des lacunes d'oxygène. Ces défauts s'opposent à la variation de la conduction électrique introduite par les impuretés. Soutenance

Ainsi, malgré des concentrations de dopants de l'ordre du pour-cent, la variation de la conduction électrique est une augmentation ou une diminution de trois ordres de grandeur par rapport au TiO2 non dopé. Alors que, les couches minces fabriquées avec de la vapeur d'eau présentent une augmentation de conductivité électrique de huit ordres de grandeur par rapport à des échantillons préparés avec de l'oxygène dans des conditions similaires.

L'importante augmentation de la conduction électrique est due, selon Alain Bally [31], à l'injection dans les grains de TiO2 d'électrons provenant de liaisons non saturées d'atomes de titane se trouvant à la surface des grains. C'est la taille nanométrique des grains qui rend possible un dopage aussi important. Ceci peut être expliqué du fait que les transitions d'oxydes métalliques sont souvent non stoechiométriques, à la pression proche-atmosphérique de l'oxygène, les vacances d'oxygène est le défaut prédominant dans le TiO2 [40]. Le manque d'oxygène introduit un excès d'électrons dans le matériau résultant dans l'augmentation de la conductivité électrique [40].

NB : Les couches minces de TiO2 ne sont pas seulement modifiées du point de vue chimique et conductivité électrique par les incorporations, mais chaque dopage est accompagné par des changements de structure et de morphologie importantes, comme la transformation de la structure anatase à la structure rutile. Par exemple, l'introduction du silicium favorise la structure anatase, alors que l'introduction de l'étain favorise la structure rutile [41]. Les grands atomes comme le cérium peuvent casser le réseau cristallin ce qui donne comme résultat un TiO2 amorphe [42] (cf. Fig.1.5).

ENIT 2009 9

(b)

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