WOW !! MUCH LOVE ! SO WORLD PEACE !
Fond bitcoin pour l'amélioration du site: 1memzGeKS7CB3ECNkzSn2qHwxU6NZoJ8o
  Dogecoin (tips/pourboires): DCLoo9Dd4qECqpMLurdgGnaoqbftj16Nvp


Home | Publier un mémoire | Une page au hasard

 > 

Production des ions négatifs en surface de graphite dans un plasma d'hydrogène et de deutérium

( Télécharger le fichier original )
par Jounayd BENTOUNES
Université de Mostaganem - Magister 2008
  

précédent sommaire suivant

Bitcoin is a swarm of cyber hornets serving the goddess of wisdom, feeding on the fire of truth, exponentially growing ever smarter, faster, and stronger behind a wall of encrypted energy

Chapitre III Dispositif expérimental et diagnostics

- 23 -

CHAPITRE III

DISPOSITIF EXPERIMENTAL
ET DIAGNOSTICS

Après un bref historique, la description détaillée du réacteur Phisis, réacteur de l'équipe Plasma-Surface, sur lequel la majorité des résultats ont été obtenus, constituera la première partie de ce chapitre. Dans un second temps, nous présenterons les diagnostics que nous avons utilisés pour l'obtention des résultats ainsi que les paramètres de mesure [20].

3.1 LE REACTEUR HELICON PHISIS :

L'axe principal de recherche de l'équipe Plasma-Surface, laboratoire PIIM, est le problème d'érosion de parois dans un tokamak. En collaboration avec le Département de Recherche sur la Fusion Contrôlée (DRFC) du CEA Cadarache, il a été décidé de développer un réacteur, capable de produire des plasmas de forte densité, de manière à se rapprocher de la réalité des plasmas à bord de tokamak.

La source utilisée est de type hélicon, ce choix de procédé est le fruit de collaboration avec l'ANU (Australian National University), après 20 ans de recherche sur les ondes hélicons. Il fut installé en 1998 dans le laboratoire PIIM et fut baptisé PHISIS, acronyme signifiant Plasma Helicon to Irradiate Surfaces In Situ.

3.1.1 Bref historique :

Les toutes premières observations des ondes hélicon dans les plasmas datent de 1960, en premier lieu dans des plasmas toroïdaux [21], puis sur des plasmas entretenus par un générateur radiofréquence [22,23] dans des expériences de laboratoire. Ces ondes, doivent leur nom au physicien français Aigrain [24].

En 1968, Boswell [25] excita en mode azimutal m=1 par une antenne l'onde hélicon dans un plasma cylindrique de faible dimension, les résultats dépassèrent toutes prévisions (des densités de l'ordre de 1013 cm3 furent mesurées). De nombreuses expériences eurent lieu par la suite attestant des formidables possibilités offertes par ce type de plasma.

Ce type de réacteur est essentiellement utilisé dans des expériences de gravure de silicium et de dépôts de couches minces.

Chapitre III Dispositif expérimental et diagnostics

- 24 -

3.1.2 Description du réacteur :

Le schéma global du réacteur PHISIS, ainsi que les diagnostics implantés dans la chambre de diffusion, sont présentés sur la figure ci-dessous :

Sample

Fig. 3.1 Schéma du réacteur Phisis

On peut distinguer, sur ce schéma, les deux chambres principales d'un réacteur hélicon :

1. La chambre source, dans laquelle le plasma est produit.

Elle est la partie supérieure du réacteur, qui est de forme cylindrique. Elle est constituée de plusieurs éléments, qui sont :

o l'antenne.

o le tube de pyrex.

o les deux bobines supérieures.

Chapitre III Dispositif expérimental et diagnostics

2. La chambre de diffusion, dans laquelle le plasma diffuse.

Elle correspond à la partie inférieure du réacteur. Dans notre cas, elle a une forme sphérique et plusieurs passages permettent d'y introduire les sondes de mesure (sondes de Langmuir, capteur de pression). Juste au dessus de cette chambre de diffusion est installée une troisième bobine. L'enceinte du réacteur est en acier inoxydable et utilise, dans la mesure du possible, des composants Ultra Haut Vide (UHV). La pression de base dans l'enceinte est typiquement de 5.10-7 mbar.

La photo ci-dessous montre le réacteur avec ses principaux accessoires au laboratoire PIIM, équipe Plasma-Surface.

Fig. 3.2 Photo du réacteur Phisis, laboratoire PIIM

- 25 -

Chapitre III Dispositif expérimental et diagnostics

- 26 -

? La chambre source :

La chambre source, représentée sur le schéma suivant, a été construite par la société australienne ANUTECH, qui travaille en relation avec l'Australian National University (ANU). Elle est constituée :

- D'un tube en pyrex de diamètre extérieur 150mm, de longueur 200mm et d'épaisseur 7mm. Sur ce tube est posé l'antenne de type Bowsell, dont la forme est représentée ci-dessous. Cette antenne de longueur 200mm et de rayon 80mm est fabriquée à partir d'un ruban de cuivre de largeur 10mm des cales isolantes en téflon sont placées entre l'antenne et le tube. Le tube permet un couplage diélectrique de la puissance RF au gaz. En outre, il assure une protection de l'antenne, qui n'est ainsi pas en contact avec le plasma.

Fig. 3.3 Géométrie de l'antenne hélicon

Le tube et l'antenne sont placés à l'intérieur d'un carter cylindrique en acier inoxydable de diamètre 180mm et de longueur 250mm. Cette enceinte sert de blindage contre le rayonnement RF de l'antenne et de conduit de refroidissement : En effet, un ventilateur fixé sur le carter souffle de l'air à température ambiante entre le tube et l'enceinte, air qui est ensuite évacué par deux trous situés de part et d'autre de l'enceinte.

Chapitre III Dispositif expérimental et diagnostics

- 27 -

- Autour de l'enceinte sont enroulées deux bobines identiques fabriquées en fil de cuivre de diamètre 1,3mm. Le diamètre intérieur des bobines est de 210mm, le diamètre extérieur, 274mm et leur hauteur est égale à 48mm. Chaque bobine est ainsi constituée de 800 spires. L'impédance d'une bobine est égale à 7,6et chaque bobine produit un champ magnétique sur l'axe égal approximativement à 40 Gauss par ampère. Les bobines sont montées de telle sorte qu'elles permettent d'avoir un champ magnétique assez uniforme dans la source.

Le courant, circulant dans les bobines, est fourni par une alimentation stabilisée et peut monter jusqu'à 4A : l'amplitude du champ varie ainsi de 0 à 150G. Ce champ est nécessaire à la propagation des ondes hélicons et assure un confinement du plasma dans la source, permettant de limiter la perte des espèces chargées aux parois.

- Une alimentation RF, fonctionnant à la fréquence 13.56 MHz et pouvant délivrer jusqu'à 1.5 kW de puissance. Ce type de décharge reste le plus largement utilisé dans de nombreux laboratoires de recherche et dans l'industrie, car elles permettent de créer des plasmas sur une large gamme de densités (108 -1012 cm-3).

Le plasma opère à basse puissance RF injectée, dans les régimes capacitif et inductif, sous basse pression (entre 0.2Pa et 2Pa).

? La chambre de diffusion :

C'est dans cette partie du réacteur que le plasma diffuse. Pour cela, on a placé une troisième bobine juste à l'entrée de la chambre de diffusion. L'espacement entre les trois bobines est identique, afin d'assurer une certaine homogénéité axiale du champ magnétique.

Il est courant d'appliquer sur cette troisième bobine un courant moitié de celui parcourant les deux autres bobines : ceci permet d'obtenir une décroissance du champ magnétique de la source vers la chambre de diffusion et une expansion du plasma. Ceci est réalisé en vue des applications de traitement de surfaces et d'implantation ionique, pour lesquelles l'homogénéité du plasma est un paramètre fondamental.

Plusieurs ouvertures ont été réalisées dans cette chambre, afin de pouvoir introduire les capteurs de pression (jauge Penning, jauge Baraton) et les diagnostics (sonde de Langmuir, spectromètre de masse). A l'intérieur et au centre de cette chambre sont déposés les échantillons, dans notre cas il s'agit d'un échantillon en graphite.

Chapitre III Dispositif expérimental et diagnostics

- 28 -

Au préalable de toute production de plasma, il est impératif de créer un vide à l'intérieur de l'enceinte, deux types de pompes (primaire et secondaire) permettent d'atteindre une pression de 10-7 mBar.

3.2 DIAGNOSTICS UTILISES : 3.2.1 Les sondes de Langmuir : ? Introduction :

Dans le but d'effectuer des mesures sur les ions, il est indispensable de connaître précisément le plasma, et donc de mesurer certains paramètres importants, tels que la densité, la température électronique et le potentiel plasma. Pour effectuer l'analyse du plasma, un diagnostic couramment utilisé est celui des sondes de Langmuir, aussi appelées sondes électrostatiques. Elles doivent leur nom au physicien américain Irving Langmuir, qui fut le premier à mettre au point et exploiter ce diagnostic en 1926 [26].

? Description :

Cette méthode d'analyse repose sur un principe de base relativement simple : elle consiste à placer un conducteur métallique polarisé à l'intérieur du plasma et à étudier la variation du courant collecté par la sonde en fonction de la tension de polarisation.

L'analyse de cette caractéristique courant-tension I(V) permet de déterminer les paramètres fondamentaux du plasma.

Cette méthode est couramment utilisée en physique des plasmas, étant donné la simplicité de fabrication et d'utilisation de telles sondes. Nous allons donc présenter ci-dessous deux types de sondes existantes, en essayant de préciser les avantages et les inconvénients de chacune.

1. Sondes collectrices planes :

C'est le type de sondes le plus simple à réaliser. Il s'agit d'un disque de métal, très fin et de petit diamètre : ce disque est relié par un fil électrique, entouré d'une gaine isolante, à un générateur, permettant de polarisé la sonde. Le disque de métal est de petites dimensions afin de ne pas perturber le plasma. Les matériaux les plus utilisés pour fabriquer une sonde sont le tantale, le tungstène et le molybdène. En effet, ces matériaux résistent bien à la chaleur et aux attaques chimiques.

Chapitre III Dispositif expérimental et diagnostics

- 29 -

L'isolation électrique est réalisée à l'aide de tubes de céramique, qui est un composant également très résistent à la chaleur. Le fil, quant à lui, est recouvert de téflon. Cette isolation assure que la surface de collection de la sonde est exactement égale à la somme des aires de chaque face du disque métallique : seul ce conducteur doit collecter du courant. La figure ci-dessous nous montre la constitution d'une sonde plane.

Fig. 3.4 Constitution d'une sonde plane

La sonde introduite dans le réacteur par une ouverture et reliée par un câble coaxial à un générateur continu ou alternatif. Seuls le disque métallique et une petite longueur d'isolant pénètrent à l'intérieur de l'enceinte.

2. Sondes collectrices cylindriques :

La forme de la surface de collection est désormais cylindrique. On utilise généralement des tiges de tantale ou de tungstène. C'est ce type de sondes qui est utilisé dans la manipulation Phisis.

? Théorie des sondes de Langmuir :

Avant d'aborder l'aspect théorique des sondes de Langmuir [27], il est sans doute préférable de présenter les phénomènes physiques se produisant lorsqu'un solide est introduit dans un plasma. Les électrons ayant une plus grande mobilité que les ions, le solide se charge négativement en surface. Les électrons sont repoussés et les ions sont attirés.

Chapitre III Dispositif expérimental et diagnostics

- 30 -

Sur une couche de quelques longueurs de Debye, la densité d'ions est supérieure à la densité électronique : il y a création d'une gaine électrostatique (phénomène identique à la création de la gaine du plasma). On retrouve de même les notions de potentiel flottant Vf et de potentiel de plasma .

Comme nous l'avons vu, la sonde de Langmuir est un conducteur de petites dimensions, plongé dans un plasma et polarisé à une tension Vs. Ces sondes peuvent être planes, cylindriques ou sphériques. La mesure du courant Is recueilli par une telle sonde permet de tracer la caractéristique de sonde Is= f (Vs), de laquelle on déduit les grandeurs caractéristique du plasma : densité électronique ne, température électronique Te, potentiel flottant Vf, potentiel plasma Vp.

Un exemple typique de caractéristique obtenue à l'aide d'une sonde plane est représenté sur la figure suivante :

Fig. 3.5 Caractéristique idéale d'une sonde plane

On distingue clairement, sur cette caractéristique, trois régions distinctes :

1. V Vf : la sonde est polarisée très négativement par rapport au plasma, elle attire

donc les ions positifs et repousse les électrons. Il se forme autour de la sonde une gaine d'ions. Cette zone de charge d'espace positive limite le courant extrait, qui est purement ionique.

2.

Chapitre III Dispositif expérimental et diagnostics

- 31 -

VVp : c'est le cas inverse du précédent, la sonde attire les électrons et repousse

pratiquement tous les ions (température des ions température des neutres 300 K). La gaine est une gaine d'électrons. Le courant recueilli est alors purement électronique.

* Pour V=Vp, il n'y a plus de gaine, ni électronique, ni ionique. La sonde collecte les courants thermiques ioniques et électroniques. Les électrons étant beaucoup plus énergétiques que les ions, le courant collecté est essentiellement électronique.

* Pour V= Vf, le courant collecté par la sonde est nul. Les courants électronique et ionique sont égaux.

3. Vf V Vp : autour du potentiel flottant, le courant augmente de façon
exponentielle, la sonde attire les ions sans repousser tous les électrons de température Te. En effet, contrairement aux ions, les électrons du plasma ont une température (donc une énergie) élevée, typiquement de l'ordre de 3eV. Cette énergie va permettre à certains électrons de franchir la barrière de potentiel présente devant la sonde lorsque celle-ci est polarisée à une tension inférieure au potentiel plasma. Entre Vf et Vp , elle recueille essentiellement un courant électronique. En dessous de Vf , elle recueille essentiellement des ions positifs.

L'analyse complète d'une caractéristique de sonde permet de déterminer les paramètres fondamentaux d'un plasma : densité électronique et ionique, potentiel plasma, potentiel flottant, température électronique, c'est ce que nous développons ci-dessous.

? Détermination des paramètres caractéristiques d'un plasma :

A l'aide de la caractéristique courant tension d'une sonde de Langmuir et des expressions analytique des courants, il est possible de déterminer les grandeurs caractéristiques d'un plasma : densités (ionique, électronique), potentiels (plasma, flottant), température électronique.

La figure ci-dessous présente un exemple type de caractéristique de la sonde. Les grandeurs sont déterminées, soit directement de la caractéristique I= f(V), soit à partir de sa dérivée première ou seconde. Le tracé de la caractéristique permettra aussi de déterminer certains paramètres qu'on décrira par la suite.

Chapitre III Dispositif expérimental et diagnostics

- 32 -

Fig. 3.6 Interprétation d'une caractéristique de sonde

*) Tout d'abord, le potentiel flottant est obtenu immédiatement de la caractéristique I(V) : En effet, c'est le potentiel pour lequel le courant collecté par la sonde est nul.

*) Pour la détermination du potentiel plasma, plusieurs méthodes sont envisageables : La méthode généralement employée utilise le fait que la caractéristique I(V) présente un point d'inflexion au niveau du potentiel plasma. On peut donc déterminer Vp en traçant la dérivée première ou seconde de la caractéristique. Vp correspond alors au maximum de la dérivée première I'(V) et à une racine de la dérivée seconde I''(V). Ce coude est clairement visible lorsque l'on travaille avec des sondes de grande dimension (planes par exemple). En revanche, il est plus difficile à distinguer avec des petites sondes cylindriques.

Chapitre III Dispositif expérimental et diagnostics

Pour les sondes planes, on utilise aussi parfois la méthode des pentes, qui consiste à tracer en coordonnées semi logarithmiques le courant électronique 'e en fonction de la tension de polarisation V. le potentiel plasma Vp est alors l'abscisse du point de concours de la partie linéaire (pour Vs Vp ) et de l'asymptote de la partie saturation électronique (VsVp ) (point B sur la figure 3.6).

*) Pour déterminer la valeur de la température électronique, on utilise la variation exponentielle du courant électronique pour des tensions inférieur à Vp .

En effet, en traçant le courant électronique en coordonnées semi logarithmiques en fonction de V, on doit obtenir une droite d'équation :

(3.1)

Si on exprime Te en électron volts, la pente de cette droite est directement égale à . Deux

relations pratiques permettent un calcul rapide de la température électronique :

ou (3.2)
8kT e

ne 0

Où est la variation de tension correspondant à une variation d'une décade du
courant électronique (figure 3.6).

*) La densité électronique est généralement obtenue à partir de la valeur du courant mesuré à V=Vp. En effet, lorsque la sonde est polarisée au potentiel plasma, le courant ionique peut être négligé devant le courant thermique électronique 'the.

Connaissant l'expression de Ithe qui est :

1

4

Aene

?m

e

Ithe

0

(3.3)

- 33 -

A : représente la surface de la sonde

: est la densité électronique dans le corps du plasma.

On en déduit la valeur de la densité électronique.

*) Concernant la densité ionique, dans le coeur d'un plasma électropositif (i.e. ne contenant que des ions positifs et des électrons), elle est égale à la densité électronique.

Chapitre III Dispositif expérimental et diagnostics

3.2.2 La spectrométrie de masse :

? Introduction :

Cet outil peut fournir une quantité importante d'informations sur les constituants du plasma, à savoir les espèces neutres (atomes, molécules, radicaux) et les ions, positifs ou négatifs. L'analyse en masse est en fait une séparation de particules chargées suivant la valeur du rapport m/q, où m est la masse de la particule et q, sa charge.

Ainsi, l'analyse des espèces neutres nécessite au préalable une étape d'ionisation à l'entrée du spectromètre, dans une chambre spécifique, tandis que l'analyse des ions extraits du plasma est directe. L'étude des spectres en masse ainsi obtenus donne une connaissance précise de la composition chimique du plasma. La présence d'un filtre en énergie (de type électrostatique dans notre appareil) permet en outre d'obtenir la fonction de distribution en énergie des ions du plasma.

? Description :

Le deuxième diagnostic, dont nous disposons sur le réacteur Phisis, est un spectromètre de masse doté d'un secteur d'analyse en énergie (Hiden EQP 300). Le schéma suivant représente une coupe du spectromètre Hiden EQP 300.

- 34 -

Fig. 3.7 Vue en coupe du spectromètre de masse Hiden

Chapitre III Dispositif expérimental et diagnostics

- 35 -

On distingue sur ce schéma les éléments principaux du spectromètre. Seule la partie supérieure de l'appareil (10cm environ) pénètre à l'intérieur du réacteur. L'orifice d'extraction de diamètre 35um permet de prélever quelques particules à l'intérieur du plasma. Pour l'analyse d'espèces chargées, une électrode placée sous cet orifice peut être polarisée afin d'attirer le type d'ions souhaité (positif ou négatif).

Les espèces neutres pénètrent dans le spectromètre par diffusion. En effet, cet appareil est pompé différentielle ment de telle sorte que la pression résiduelle y est inférieure à 10-7mBar, alors que la pression de gaz dans l'enceinte du réacteur est typiquement de 10-3mBar.

Une chambre d'ionisation, constituée de deux filaments de tungstène, est placée derrière l'orifice d'extraction pour ioniser les espèces neutres étudiées. Elle reste inactive pour l'analyse d'ions du plasma.

Des lentilles de focalisation permettent ensuite d'obtenir un faisceau de particules chargées, qui arrive alors sur le secteur électrostatique d'analyse en énergie. Cette partie, coudée à 45°, réalise une sélection en énergie des ions incidents grâce à un champ électrique appliqué entre les deux plaques du secteur. La force électrique créée par ce champ va provoquer une modification de la trajectoire des ions.

La dérivation sera d'autant plus grande que la vitesse des ions (donc leur énergie) est élevée et une partie des ions incidents va se perdre sur les parois de secteur électrostatique. Une correspondance champ électrique énergie est ainsi faite. Les ions ayant traversé le secteur arrivent ensuite sur le filtre en masse, qui est constitué d'un quadripôle, système de quatre barreaux polarisé.

Un champ électrique oscillant est appliqué entre les barreaux du quadripôle, qui n'autorise qu'une seule trajectoire stable, dépendant du rapport m/q. ainsi, une configuration donnée du champ électrique permet uniquement le passage des ions ayant le rapport m/q correct. Les ions ayant traversé le secteur électrostatique et le quadripôle arrivent alors sur le détecteur, qui est un multiplieur d'électrons secondaires.

? Utilisation :

Nous avons utilisé le spectromètre de masse essentiellement pour l'analyse des ions du plasma. Ainsi, nous avons obtenu leur fonction de distribution en énergie en fonction des divers paramètres de la décharge : pression de gaz, puissance injectée, champ magnétique.

Chapitre III Dispositif expérimental et diagnostics

Pour les plasmas basse pression, l'énergie des ions pénétrant dans le spectromètre est acquise dans la gaine présente devant l'appareil. En effet, il existe dans cette région une chute de potentiel entre le plasma et la tête du spectromètre.

Fig. 3.8 Gaine entre le spectromètre et le plasma

Les ions positifs du plasma sont accélérés par ce gradient de potentiel et leur énergie potentielle est convertie en énergie cinétique. Ils arrivent dans le spectromètre avec une énergie centrée autour de qVp , ou q est leur charge et Vp , la valeur du potentiel plasma devant la tête du spectromètre. L'allure typique d'une IEDF d'ions positifs, dans un plasma non collisionnel, (ce qui est notre cas : faible condition de pression où le libre parcours moyen est supérieur à la taille de la gaine) est donc un pic centré autour de la valeur du potentiel plasma, comme le montre la figure ci-dessous.

1Pa 100W

=48V

vp

400000

350000

300000

250000

200000

150000

100000

50000

0

0 20 40 60 80 100

r asm

t

as

Potential (V)

dry

Fig. 3.9 Exemple type de FDI pour un ion positif.

- 36 -

Chapitre III Dispositif expérimental et diagnostics

- 37 -

Si l'on fixe l'énergie de passage dans le spectromètre au maximum du pic, on peut alors effectuer une analyse en masse de tous les ions présents dans le plasma et donc obtenir les proportions relatives de chaque ion.

3.3 PARAMETRES EXPERIMENTAUX :

3.3.1 Pompage de gaz et pression :

Avant de produire le plasma, on fait préalablement le vide dans l'enceinte (chambre de diffusion). Le volume total du réacteur étant relativement faible (10 litres), la mise sous vide s'effectue rapidement : le pré vidage du réacteur depuis la pression atmosphérique jusqu'à 10-2 -10-3 mbar est assuré par une pompe primaire à palettes (Alcatel 2012 A).

Le pompage secondaire est alors effectué par une pompe turbo moléculaire (Alcatel ATP 150l/s), qui permet d'atteindre, en quelques dizaines de minutes, une pression résiduelle limite de 10-7 mBar.

Pour cette phase du pompage, le capteur de pression utilisé est une jauge Penning, qui mesure des pressions comprises entre 10-2 et 10-7 mBar.

L'arrivée du gaz dans le réacteur se fait par une ouverture percée dans la chambre de diffusion. Une vanne micro fuite permet de régler avec précision la pression du gaz dans la source. Une jauge Baratron, qui travaille dans la gamme 1uBar-1 mBar, est utilisée pour mesurer la pression dans l'enceinte. Avec ce type de jauge, le zéro, correspondant au vide limite, doit être vérifié à chaque expérience.

Au cours de nos expériences, le spectromètre différentiel est pompé à mBar ( Pa) au

moyen d'une pompe turbomoléculaire (70 l/s), suivie par une pompe primaire. Il est inséré horizontalement dans la chambre sphérique du plasma en expansion par l'intermédiaire d'une bride DN-63-CF, qui met l'orifice extracteur à 40mm de l'échantillon

Le gaz utilisé est l'hydrogène et le deutérium, mais nous les avons également utilisé en mélange avec l'argon et l'hélium. Tous les capteurs de pression sont installés dans la chambre de diffusion. . La pression du gaz varie dans le cadre de notre manipulation de 0.2 à 2 Pascal.

Chapitre III Dispositif expérimental et diagnostics

- 38 -

3.3.2 Paramètres générateurs RF :

Le générateur de fréquence RF (13,56 MHz) peut fournir jusqu'à 1.5 kW et est capable de fonctionner en continu ou en régime pulsé. Dans ce document, il était exploité en mode continu. Afin d'améliorer la densité du plasma dans la chambre un champ magnétique peut être appliqué, comme nous l'avons vu par les trois bobines (§3.1.2).

Nos mesures ont été prises pour une injection d'alimentation de 30 à 1 kW.

Dans ce travail nous avons essentiellement fonctionné en régime capacitif [16article] avec un champ nul (B=0). Cependant quelques mesures seront présentées en mode inductif. Pour augmenter suffisamment la densité et atteindre le mode inductif il a été nécessaire d'appliquer un champ magnétique de 24 Gauss à l'aide des deux bobines supérieures, la bobine inférieure n'étant pas utilisée.

3.3.3 Echantillon :

Comme nous l'avons déjà signalé, notre porte-échantillon est placé au centre de la chambre de diffusion, en face du spectromètre. Mis à part la partie de graphite qui fait face au spectromètre, il est totalement couvert par un isolant en céramique. La distance entre l'échantillon et le spectromètre est de 40mm.

L'échantillon peut être polarisé jusqu'à -200V par rapport au potentiel plasma, la valeur de polarisation permet de faire varier l'énergie des ions positifs incidents.

3.4 CONCLUSION :

Le dispositif expérimental mis en place et décrit dans ce chapitre est le réacteur Phisis, qui consiste en une source de plasma hélicon cylindrique et d'une chambre diffusion sphérique. Une description des chambres a été donnée ainsi que la méthode de caractérisation de ses performances par la sonde de Langmuir et d'un spectromètre de masse.

Les paramètres expérimentaux, comme la pression, la puissance et la plage de valeur du potentiel de l'échantillon sont également donnés.

Chapitre IV Mesures expérimentales

- 39 -

précédent sommaire suivant






Bitcoin is a swarm of cyber hornets serving the goddess of wisdom, feeding on the fire of truth, exponentially growing ever smarter, faster, and stronger behind a wall of encrypted energy








"Il faut répondre au mal par la rectitude, au bien par le bien."   Confucius