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Elaboration et caractérisation physique des couches minces de TiO2 déposées par pulvérisation cathodique

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par Ihsen BEN MBAREK
Ecole Nationale d'Ingénieurs de Tunis - Mastère en Génie des Systèmes Industriels 2009
  

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Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2

En effet, une structure colonnaire composée de nanocristallites se forme à partir des nucléis créés sur des défauts. Les colonnes coniques n'ont que peu de liaisons entre elles. C'est une croissance nodulaire (structure poreuse) conformément au modèle M-D et Thornton décrit dans la partie bibliographique (voir paragr. 2.6.6).

Tandis que, la figure 3.11 (b) montre une structure de transition correspondante à un début de cristallisation à 100 °C qui représente la température de transition au rutile pour ces couches.

Par contre, la figure 3.11 (c) montre que les couches sont cristallisées d'une manière quasi-isotropique. C'est plutôt une tendance à avoir une couche monocristalline.

L'image AFM montrée en figure 3.11 (d) dévoile de larges cristallites plates et d'autres plus petites, ce qui n'était pas aussi visibles pour des températures de substrats inférieures à 200 °C. C'est une phase de recristallisation des couches de TiO2 pour avoir des couches polycristallines.

Ces observations sont en bon accord avec les résultats de l'analyse quantitative menée par diffraction des rayons X.

D'autre part, la rugosité augmente progressivement à partir de la température de transition (100 °C). Les rugosités moyennes (rms pour root mean square roughness) des différents échantillons sont regroupées dans le tableau 3.5.

Tab. 3. 5 Rugosité moyenne obtenue par AFM des couches minces de TiO2 élaborées sur substrats de verre

Température de substrat

Ambiante (20°C)

100°C

200°C

300 °C

Rrms (nm)

(-)22.3

5.8

7.6

19.8

La rugosité rms des couches augmente avec la température de dépôt, passant de 5.8 nm à 100°C à environ 19.8 nm à 300°C. Cette augmentation de la rugosité est liée à la structure colonnaire qui est plus prononcée à haute température qu'à basse température.

Une image tridimensionnelle (1um x 1um) de l'état de surface des couches donne une idée plus claire sur la rugosité des surfaces ainsi que la dispersion des cristallites (voir figure 3.12).

Pour les couches déposées à des températures supérieures à 100 °C, des grains pratiquement de même taille (de l'ordre de 43 nm) apparaissent. Ces grains correspondent à l'agglomération de plusieurs petits grains (de taille de l'ordre de 15 nm) constituant des cristallites.

Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2

(c) (d)

(a)

(b)

Fig. 3. 12 Images AFM 3D des couches de TiO2/Verre à TS (a) ambiante, (b) 100, (c) 200 et (d) 300°C

En effet, la mobilité des particules adsorbées augmente avec la température et la morphologie structurale se transforme de telle sorte que les cristallites grossissent et les grains sont de plus en plus serrés pour former des colonnes de grains ou cristallites.

3.4.4 Couches de TiO2 élaborées sur des substrats de silicium

La figure 3.13 montre les images réelles et leurs négatifs donnés par l'analyse AFM des couches de TiO2 déposées sur des substrats de silicium chauffés à température ambiante, 100, 200 et 300 °C.

ENIT 2009 59

ENIT 2009 60

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