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Elaboration et caractérisation physique des couches minces de TiO2 déposées par pulvérisation cathodique

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par Ihsen BEN MBAREK
Ecole Nationale d'Ingénieurs de Tunis - Mastère en Génie des Systèmes Industriels 2009
  

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Conclusion générale

Cette étude a pour objectif principal la synthèse et la caractérisation des couches minces de dioxyde de titane sur des substrats de verre et de silicium obtenues par pulvérisation cathodique RF magnétron à différentes températures de substrat.

Différentes techniques d'analyse ont été mises en oeuvre pour caractériser les couches minces de TiO2. Elles sont essentiellement divisées en quatre catégories. Les analyses optiques comprenant des mesures de transmission et de réflexion ont fourni des informations sur les états électroniques des couches. L'analyse de la structure et de la morphologie des couches ont été réalisées par diffraction des rayons X et par microscopie à force atomique. Finalement, les propriétés électriques en mode continu ou alternatif ont été mesurées à l'aide de la spectroscopie d'impédance et la méthode de « hot point probe ».

Les analyses optiques ont montré que la température de substrat peut translater la zone de photoactivité du dioxyde de titane de l'Ultra Violet vers le proche visible. En effet, pour les couches à substrat de verre, l'énergie de gap optique varie en fonction de la température de 3.47 à 3.09 eV alors que l'indice de réfraction varie de 2.3 à 2.7. D'après ces analyses, le calcul des épaisseurs des couches déposées sur des substrats de verre montre que ces couches ont des épaisseurs variant entre 183 et 114 nm. Alors que pour les couches déposées sur de substrats de silicium, l'étude optique montre que le TiO2 est un matériau anti-réfléchissant pour les panneaux de silicium. En effet, le silicium est très réfléchissant dans les domaines UV et visible ce qui influence le rendement des cellules photovoltaïques.

Les études structurale par diffraction des Rayons X (DRX) et morphologique par microscopie à force atomique (AFM) ont montré que les couches de TiO2 élaborées par pulvérisation cathodique RF magnétron sur des substrats de verre et de silicium ont une structure qui dépend fortement de la structure cristalline du substrat à basse température. Cette structure s'améliore avec la température pour être plus compacte, stable, cristallisée et moins poreuse suivant le modèle de Thornton de croissance cristalline relatif aux couches élaborées par pulvérisation cathodique. Les couches déposées à température ambiante présentent une grande rugosité due à la porosité des couches.

ENIT 2009 87

Conclusion générale

Le dépôt sur des substrats chauffés paraît favoriser la structure tétragonale des substrats de silicium et diminuer la porosité des couches vu que le pic du silicium devient de moins en moins intense du fait que les couches deviennent de plus en plus compactes, cristallisées. On a aussi remarqué une amélioration de la stabilité des couches déposées sur du silicium qui se traduit par la transformation de la structure anatase à la structure rutile.

Les couches minces de TiO2 ne sont pas seulement modifiées du point de vue optique, structural mais chaque augmentation de température est accompagnée par des changements de morphologie importants. Les couches sont poreuses à basse température et suivent une croissance nodulaire. En augmentant la température, la structure devient colonnaire.

Les résultats menés par spectroscopie d'impédance montrent que suivant la température, le dioxyde de titane peut être un bon isolant ou un conducteur transparent raisonnable. Ils permettent la modélisation électrique des couches et la compréhension du comportement des grains et des joints de grain. La spectroscopie d'impédance complexe permet de confirmer que les zones granulaires gouvernent majoritairement la conduction au sein des couches minces de dioxyde de titane à haute température de substrat. Plus un dépôt est poreux, plus la section entre les grains est grande, ce qui conduit à des résistivités plus grandes. La résistivité des couches diminue donc, pareillement à la résistivité des zones granulaires, en fonction de la diminution de la porosité de la couche qui est une conséquence de l'augmentation de la température.

D'après les mesures de type de conductivité on constate que, conformément à la littérature, la phase rutile est généralement de conductivité de type N alors que la phase anatase est souvent de type P.

Ce travail représente une introduction à un sujet de recherche dédié à améliorer les propriétés optiques et électriques des couches de TiO2 pour des applications photovoltaïques. Dans ce cadre, on propose d'étudier l'effet du dopage (le niobium) et/ou du recuit tout en variant la température de substrat jusqu'à la disparition complète de la phase anatase des couches déposées sur du verre.

ENIT 2009 88

Bibliographie

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