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Elaboration et caractérisation physique des couches minces de TiO2 déposées par pulvérisation cathodique

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par Ihsen BEN MBAREK
Ecole Nationale d'Ingénieurs de Tunis - Mastère en Génie des Systèmes Industriels 2009
  

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Chapitre 3 : Elaboration et caractérisation des couches de TiO2

(10)

(9) et

3.5.1.3 Détermination du gap optique de la couche

1 (1 ? R )

? ? Ln [ ]

d T

Pour une couche fortement absorbante, les oscillations interférentielles dues aux réflexions multiples dans la couche disparaissent, la réflexion à la surface couche substrat est négligeable.

Les expressions de la réflexion , de la transmission , et de l'indice de réfraction
sont données par [101] :

(11) (12)

(13)

ou encore

d étant l'épaisseur de la couche, l'indice des substrats de verre et k le

( h E q v _ gopt )

coefficient d'extinction

Dans la zone de forte absorption dite aussi d'absorption fondamentale (c'est-à-dire que ad

> 0.1 ou bien a > 104 cm-'), le coefficient d'absorption et le coefficient d'extinction k en
absence d'oscillation sont donnés par [102] :

2

(14) et

 

(15)

ENIT 2009 64

Dans la région de forte absorption (a > 104 cm-'), impliquant les transitions optiques entre la bande de valence et celle de conduction, a est régi par la relation de Tauc [102] :

a(co)=fl hv (16)

- J3 est une constante qui dépend de la probabilité de transition.

- y est la fréquence de l'onde (Hz). Pour toute onde, on peut écrire y = c/X où X est la

longueur d'onde (en mètre m) et c est la vitesse de la lumière.

- h est la constante de Planck.

- w=2ity est la fréquence angulaire du photon incident.

- Egopt est le gap optique.

- q un nombre qui caractérise le processus de transition.

q vaut : 1/2 pour les transitions directes permises.

ENIT 2009 65

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